甩膠機又被稱為“勻膠機”，其工作原理就是利用旋轉產生的離心力原理，將膠液均勻甩開，平鋪到材料表面的一種機械裝置。常見于各類對于材料表面涂覆的均勻性有嚴格要求的實驗或者制造領域，例如半導體材料研發(fā)和制備工藝，生物材料物性分析，化工材料薄膜的制備工藝等等。
甩膠機的機械裝置通過程序調控旋轉速度以此來改變離心力大小，并通過滴膠裝置控制膠液的流量，來達到制備薄膜所需的厚度，另外薄膜厚度也取決膠液的粘度，涂覆的溫度和濕度等環(huán)境因素。
該設備廣泛應用于MEMS微加工，它可以用來制備厚度小于10 納米薄膜。也常應用在約1 微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。注：光刻膠剝離轉速通常需要是以每秒20至80轉的速度旋轉30到60秒才可以。
設備通過調控出不同的旋轉速度，使得膠液能夠散開達到基底材料的邊緣，并達到預定的厚度。所采用的膠液常常是易揮發(fā)的，同時也有可能被蒸發(fā)掉，因此，旋涂速度越高，所得到的薄膜越薄，當然薄膜的厚度也取決于這種膠液和其比兌的試劑混合后的粘度和濃度等因素。